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            原位激光過程氣體分析儀
            GasTDL-3100
            GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。
            產品特性
              • 采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
              • 原位安裝,無需采樣預處理系統
              • 響應快速(T90≤4s),可實時反應氣體濃度
              • 實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高
              • 在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環境下具有良好的適應性
              • 隔爆防爆設計,安全系數高
              • 構造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護
            技術參數
            性能參數
            測量組份 O2、CO、CO2、CH4*
            測量原理 TDLAS
            測試范圍 O2:(0 5)%VOL (可定制100%)
            CO:(0 100)%VOL
            CO2:(0 100)%VOL
            CH4:(0 20)%VOL
            精度 ≤±1%F.S.
            重復性 ≤±1%
            量程漂移 ≤±1%F.S.
            分辨率 0.01%VOL
            響應時間 T90≤4s
            工作參數
            防爆等級 Exd II CT6
            安裝方式 原位安裝
            環境溫度 (-20~ +60)℃
            工作電源 24V DC,24W
            吹掃氣體 (0.3~ 0.8)MPa工業氮氣
            接口信號
            通訊 RS485、RS232
            輸出模式 2路4-20mA輸出
            3路繼電器輸出

            *注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度。

            *具體參數請以規格書為準,如需獲取更多技術信息,請聯系:027-81628829或info@gasanalyzer.com.cn
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